1 光微波破坏除臭原理
光微波破坏除臭设备利用光微波发射器控制C波段H管废气处理灯，C波UV管253.7nm段（破坏系统，破坏分子链）及185nm激光管（杀菌系统，把裂解后的分子分解成无毒无害的小分子）改变恶臭气体如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等。加臭气、和本公司技术“二十七种催化涂层技术”进行废气再次分解和催化。利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。 UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧对有机物具有的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有的清除效果。“二十七种催化涂层技术”加强了-C波段紫外线照射数倍；增加了-C波段光段的反射，使-C波反射再次利用；次涂层材料属于惰性材质，在-C波段紫外线的照射下慢慢挥发催化剂进行废气再次催化。去除废气中有毒、有害、有味气体。 2 技术优越性
①、处理技术比传统技术强，可根据不同工况特质。
②、重量轻，处理10万风量的废气，设备仅重200公斤。
③、设备内部部件使用寿命5年以上，整机15年以上，真正免维护。
④、用电量比传统技术小，单台设备仅1-6千瓦。
⑤、操作性比传统处理技术更简易，无需专人看管及维护。
⑥、整机所有材料均采用特殊材料制成，适合24小时连续工作。
⑦、主机设备安全无电路，真正实现远程操作，无任何隐患（该技术为我公司保密技术）。
3 适用场合及应用对象
污水处理厂 填埋场 垃圾处理厂 饲料加工厂、工业废水处理厂等。
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